The 65h JSAP Spring Meeting, 2018

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Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.1 Plasma production and diagnostics

[17p-C204-1~20] 8.1 Plasma production and diagnostics

Sat. Mar 17, 2018 1:15 PM - 6:30 PM C204 (52-204)

Kentaro Tomita(Kyushu Univ.)

4:15 PM - 4:30 PM

[17p-C204-12] Influence of Pulse Modulation on Microwave Excited Plasma Production Using Water as a Source Gas

Takeshi Aizawa1, Hiroaki Suzuki1, Taishin Shimada1, Tatsuo Ishijima1, Yasunori Tanaka1, Yoshihiko Uesugi1 (1.Kanazawa Univ.)

Keywords:maicrowave plasma, pulse modulation

我々は, フォトレジスト除去の新規手法として水プラズマアッシング法の研究開発を進めている。本手法はアッシングレートが非常に速く, 基板の直接水冷によるダメージ低減化も期待されている。これまでマイクロ波の出力は無変調で行ってきたが,低電力でのプラズマ生成が困難である。そこで, パルス変調により平均電力を低減させ, プラズマの生成を試みた。本報では, 水プラズマに対するパルス変調の影響を調査したので報告する。