2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.3 絶縁膜技術

[17p-F206-1~17] 13.3 絶縁膜技術

2018年3月17日(土) 13:45 〜 18:15 F206 (61-206)

上野 智雄(農工大)、大田 晃生(名大)

14:00 〜 14:15

[17p-F206-2] Kinetic Model for Thermal Oxidation of Germanium

Wang Xu1、Tomonori Nishimura1、Takeaki Yajima1、Akira Toriumi1 (1.Tokyo Univ.)

キーワード:Germanium, Thermal Oxidation