[17p-F206-1~17] 13.3 絶縁膜技術

[17p-F206-6] GeO₂/Ge界面特性に与えるHigh-k層の影響

〇和知 祥太郎¹、岩崎 好孝¹、上野 智雄¹、北原 義典¹、山田 浩史¹、並木 美太郎¹ (1.農工大院工)

キーワード：ゲルマニウム