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[17p-P10-69] 全スピネル構造磁気トンネル接合の作製と評価
キーワード:トンネル磁気抵抗、スピネル、マグネタイト
前回、マグネタイト上にMg及びAlを成膜後、酸化させることでスピネル構造の障壁層を形成する事を報告した。しかし、同様の方法で障壁層の膜厚を増加させると障壁層はスピネル構造を維持しないことが明らかになった。そこで、障壁層を反応性RFマグネトロンスパッタ法により成膜する手法について検討した。さらに、微細加工により磁気トンネル接合素子を実際に作製し、電流-電圧(I-V)特性を評価した。