2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

13 半導体 » 13.5 デバイス/集積化技術

[17p-P8-1~24] 13.5 デバイス/集積化技術

2018年3月17日(土) 13:30 〜 15:30 P8 (ベルサール高田馬場)

13:30 〜 15:30

[17p-P8-1] スパッタエピタキシー法で形成したSiGe埋め込みチャンネル型p-MOSFETの特性制御

八木 拓馬1、塚本 貴広1、広瀬 信光2、笠松 章史2、松井 敏明2、須田 良幸1 (1.東京農工大学 院工、2.情報通信研究機構)

キーワード:半導体、デバイス