2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.7 結晶評価,不純物・結晶欠陥

[18a-D103-1~10] 15.7 結晶評価,不純物・結晶欠陥

2018年3月18日(日) 09:00 〜 11:45 D103 (56-103)

小野 敏昭(SUMCO)、河合 宏樹(東芝)

11:15 〜 11:30

[18a-D103-9] Si中のCu4複合体の形成機構

白井 光雲1、藤村 卓巧1 (1.阪大産研)

キーワード:Cu複合体、形成機構

我々は、シリコン中のCu4個からなる複合体欠陥として新しい構造モデルを提案した。それは対称性の高いCu4の四面体構造である。この構造モデルに基づき、複雑なCu4複合体の形成機構を研究する。困難点は、Cu4は高温で作成されそれを急冷することで安定相として得ているが、T=250°Cくらいでアニールすることで消滅し、さらにT=600°C以上でCu4が再形成するという複雑な熱サイクルを持つことである。この現象を格子空孔、Cu偏析相との相平衡を考えることで説明した。