PDF ダウンロード スケジュール 21 いいね! 0 コメント (0) 09:45 〜 10:00 [18a-F206-4] ダイヤモンド基板のCMP処理によるエピタキシャル膜の高品質化 〇藤居 大毅1、枡谷 聡士2、大山 幸希1、武田 秀俊1、木村 豊1、金 聖祐1、嘉数 誠2 (1.アダマンド並木精密宝石株式会社、2.佐賀大院工) キーワード:ダイヤモンド、化学機械研磨、エピタキシャル成長