2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[18a-F206-1~9] 6.2 カーボン系薄膜

2018年3月18日(日) 09:00 〜 11:30 F206 (61-206)

一色 秀夫(電通大)

09:45 〜 10:00

[18a-F206-4] ダイヤモンド基板のCMP処理によるエピタキシャル膜の高品質化

藤居 大毅1、枡谷 聡士2、大山 幸希1、武田 秀俊1、木村 豊1、金 聖祐1、嘉数 誠2 (1.アダマンド並木精密宝石株式会社、2.佐賀大院工)

キーワード:ダイヤモンド、化学機械研磨、エピタキシャル成長