2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[18p-C102-1~16] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2018年3月18日(日) 13:45 〜 18:00 C102 (52-102)

内藤 泰久(産総研)、新宮原 正三(関西大)

16:45 〜 17:00

[18p-C102-12] 標準電極電位差を利用した3値記憶素子の作製

〇(B)渡邊 佑紀1、清水 亮太1,2、西尾 和記1、杉山 一生1、リウ ウェイ3、渡邉 聡3、一杉 太郎1 (1.東工大物質理工、2.JSTさきがけ、3.東大工)

キーワード:多値メモリ、界面、Liイオン伝導体

これまで、我々は異種金属間標準電極電位差を利用したメモリデバイス(VolRAM)を報告した。これはLi/Li3PO4/Auの積層構造であり、Li3PO4/Au界面でのLi-Au合金、脱合金反応による電位差変化がメモリ動作に対応している。Au電極では、Liと合金相を形成してしまい、Liイオンの挙動を理解することは難しい。本研究では、Liと合金を形成しないNiを用いて、動作メカニズムの検討を目指した。その結果、3つの異なる電位状態を保持できることを見出したので報告する。