[18p-D103-1~23] 15.7 結晶評価，不純物・結晶欠陥

[18p-D103-2] 分子イオン注入エピウェーハの製品特性（２）
-CH₂P分子注入領域における水素の脱離・吸着挙動の解析-

〇奥山 亮輔¹、柾田 亜由美¹、小林 弘治¹、重松 理史¹、廣瀬 諒¹、門野 武¹、古賀 祥泰¹、奥田 秀彦¹、栗田 一成¹ (1.SUMCO)

キーワード：水素、分子イオン注入

我々はCMOSイメージセンサの高性能化のために、炭素クラスターにリンを追加した分子イオン注入技術の開発をおこなってきた。分子イオン注入レンジは炭素分子クラスターと異なり、二つの水素のピークが観察されることを明らかとした。水素に対する捕獲能力の解析は分子イオン注入ウェーハの特性の理解に重要である。そのため、分子イオン注入レンジにおいて、従来報告がない水素の捕獲・拡散挙動に関して、評価、解析をおこなったので報告する。