奥山亮輔

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発表者・著者、共著者

2018年3月18日(日) 13:15 〜 19:30 D103 (56-103)

一般セッション(口頭講演)
| 15 結晶工学
| 15.7 結晶評価，不純物・結晶欠陥

[18p-D103-1~23] 15.7 結晶評価，不純物・結晶欠陥

13:30 〜 13:45

[18p-D103-2] 分子イオン注入エピウェーハの製品特性（２）
-CH₂P分子注入領域における水素の脱離・吸着挙動の解析-

〇奥山亮輔¹、柾田亜由美¹、小林弘治¹、重松理史¹、廣瀬諒¹、門野武¹、古賀祥泰¹、奥田秀彦¹、栗田一成¹ (1.SUMCO)