2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.5 デバイス/集積化技術

[18p-G203-1~18] 13.5 デバイス/集積化技術

2018年3月18日(日) 13:15 〜 18:00 G203 (63-203)

齋藤 真澄(東芝)、宮地 幸祐(信州大)

16:15 〜 16:30

[18p-G203-12] VO2ニューロンにおけるスパイク誘起-金属絶縁体転移

矢嶋 赳彬1、西村 知紀1、鳥海 明1 (1.東大マテ)

キーワード:VO2、金属絶縁体転移、ニューロモルフィック

ニューロモルフィックハードウェアのための新しい回路として、VO2等の金属絶縁体転移材料を用いたニューロン回路の研究を進めてきた。VO2に複数のスパイク電圧を連続で印加すると、単一スパイクでは転移しないが複数スパイクでは転移するという、ニューロンの積分発火特性と類似の性質を示す。しかし、スパイク電圧のように時間に対して激しく変動する電圧に対して、VO2がどのような転移を示すのか系統的に調べた研究はない。そこで本研究では、VO2に様々な周波数のAC電圧を印加することで、変動電圧によって誘起される金属絶縁体転移の支配パラメータを明らかにした。