2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.5 デバイス/集積化技術

[18p-G203-1~18] 13.5 デバイス/集積化技術

2018年3月18日(日) 13:15 〜 18:00 G203 (63-203)

齋藤 真澄(東芝)、宮地 幸祐(信州大)

14:00 〜 14:15

[18p-G203-4] 反強誘電体薄膜をゲート絶縁膜に用いたMOSFETの電気特性

山口 大志1、後藤 高寛1、竹中 充1、高木 信一1 (1.東大院工)

キーワード:反強誘電体、MOSFET、オン電流

HfxZr1-xO2からなる反強誘電体薄膜をゲート絶縁膜として使用したときのMOSFETの電気特性を、報告されたP-E特性に対しフィッティングして得られたP-E曲線からシミュレーションを用いて調べ、オン電流向上とヒステリシス低減の効果を明らかにしたので報告する。強誘電体薄膜を用いたときはオン電流の向上がみられたが大きなヒステリシスが発生したのに対し、反強誘電体薄膜ではヒステリシスを抑制しつつオン電流の向上がみられることが分かった。