2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

12 有機分子・バイオエレクトロニクス » 12.1 作製・構造制御

[18p-G205-1~18] 12.1 作製・構造制御

2018年3月18日(日) 13:15 〜 18:00 G205 (63-205)

間中 孝彰(東工大)、三浦 康弘(浜松医科大)

15:00 〜 15:15

[18p-G205-8] 気液界面を用いたカテコール前駆体ブロックコポリマーの構造化とポストトリートメントによるテンプレートへの応用

伊藤 祥穂1、松井 淳2、永野 修作3、藪 浩4 (1.山形大院理工、2.山形大、3.名大VBL、4.東北大WPI-AIMR)

キーワード:気液界面、ブロックコポリマー、カテコール

本研究では気液界面上にカテコール基を保護したブロックコポリマーpoly(dimetoxystyrene116-b-styrene273)と4’-pentyl-4-cyanobiphenylを展開し、新たな階層構造を作製し、その膜表面の構造を原子間力顕微鏡により観察した。その後、作製した膜をBBr3と反応させ、大きな構造変化なく脱メチル化することに成功した。これを硝酸銀水溶液に浸すことで銀ナノ粒子との取扱いが容易なテンプレートとして働くことを示した。