2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

12 有機分子・バイオエレクトロニクス » 12.1 作製・構造制御

[18p-G205-1~18] 12.1 作製・構造制御

2018年3月18日(日) 13:15 〜 18:00 G205 (63-205)

間中 孝彰(東工大)、三浦 康弘(浜松医科大)

15:30 〜 15:45

[18p-G205-9] ビチオフェン含有高分子ナノシートの構造解析

山本 俊介1、池元 智拾1、下赤 卓史2、長谷川 健2、小金澤 智之3、宮下 徳治1、三ツ石 方也1 (1.東北大多元研、2.京大化研、3.JASRI)

キーワード:Langmuir-Blodgett法、π共役系、pMAIRS

我々はLangmuir-Blodgett(LB)法を用いて側鎖にπ共役系を有する両親媒性分子の単分子膜集積と多層累積に取り組んでおり、共役系としてビチオフェンを有するp(mHBT)をアルキル鎖含有両親媒性高分子pDDAと共展開することで安定な単分子膜形成と基板への連続累積が可能であることを見出してきた。本発表では固体基板上累積膜の構造解析について議論した。その結果、p(mHBT):pDDA累積膜は面内方向の秩序は有さないものの、面外方向にのみ秩序性を有するパッキングを取ることが示された。