[18p-P2-1~10] 6.5 表面物理・真空

[18p-P2-8] 陽極酸化ポーラスアルミナの空孔率変調による多層膜作製

〇小川 真弥¹、川本 清¹ (1.八戸工大)

キーワード：光学薄膜、陽極酸化、アルミニウム

「陽極酸化ポーラスアルミナ」は、空孔が規則的に並んだ構造をしている。また、その空孔の大きさや間隔、空孔率は陽極酸化時の印加電圧で変化する。すなわち、陽極酸化条件を制御することで空孔率を変え、屈折率などの物性値を制御することが可能と考えられる。本研究では、陽極酸化ポーラスアルミナなどの陽極酸化条件を変化させ、λ/4多層膜の作製を試みた。