The 65h JSAP Spring Meeting, 2018

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Oral presentation

13 Semiconductors » 13.7 Compound and power electron devices and process technology

[19a-C302-1~12] 13.7 Compound and power electron devices and process technology

Mon. Mar 19, 2018 9:00 AM - 12:15 PM C302 (52-302)

Makoto Miyoshi(Nagoya Inst. of Tech.)

9:00 AM - 9:15 AM

[19a-C302-1] Intracollisional Field Effect of Polar Optical Phonon Scattering in GaN

〇(M1)Shintaro Makihira1, Nobuya Mori1 (1.Osaka Univ.)

Keywords:intracollisional field effect, GaN, polar optical phonon scattering

SiC, GaN などの広い禁止帯(WBG) を持つ半導体では,絶縁破壊電界が数MV/cm と高く,パワーデバイス応用に向けて,Si に代わる半導体材料として注目されている.数MV/cm程度の印加電界のもとでは,散乱中に電子が加速される,散乱内電界効果(ICFE)が重要な役割を演じると予想される.本研究では,GaN の極性光学フォノン散乱過程に対するICFE の影響を調べた.