[19a-D101-1~9] 16.3 Bulk, thin-film and other silicon-based solar cells

[19a-D101-5] Impact of SiO_x Interlayer on Thermal Stability of TiO_x Passivating Layer

〇Takeya Mochizuki¹, Kazuhiro Gotoh¹, Yasuyoshi Kurokawa¹, Noritaka Usami¹ (1.Graduate School of Eng., Nagoya Univ.)

Keywords:passivation, TiOx, crystalline silicon

結晶Si系太陽電池において、酸化チタン(TiO_x)は電子選択層として機能し、高いパッシベーション効果を示すので注目を浴びている。しかし、TiO_xのパッシベーション効果に対する熱脆弱性が電気的特性を活かした太陽電池の開発を制限している。我々は熱脆弱性の改善を目指し、SiO_x 中間層と熱耐性の関係について調査した。室温の硝酸によって作製したSiO_xがTiO_xの結晶化を抑制し、TiO_xのポテンシャルを活かした太陽電池への展開の可能性を見出した。