[19a-P6-1~79] 17 ナノカーボン（ポスター）

[19a-P6-7] 積層SAM/HfO_xゲート絶縁膜を用いたMoS₂ FETの作製

〇川那子 高暢¹、居駒 遼¹、大場 智明¹、高木 寛之¹ (1.東京工業大学)

キーワード：自己組織化単分子膜、二硫化モリブデン、電界効果トランジスタ