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一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.1 強誘電体薄膜

[19p-C104-1~19] 6.1 強誘電体薄膜

2018年3月19日(月) 13:15 〜 18:30 C104 (52-104)

山田智明(名大)、平永良臣(東北大)、三村憲一(産総研)

15:45 〜 16:00

[19p-C104-10] BiFeO₃薄膜のMOCVD成長における成膜圧力の影響

〇(M1C)吉村奈緒¹、田中拓人¹、藤沢浩訓¹、中嶋誠二¹、清水勝¹ (1.兵庫県立大学)

キーワード：MOCVD、BiFeO3