[19p-C204-1~17] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[19p-C204-1] 中性粒子ビームエッチングによるGeエッチングメカニズムの検討

〇野田 周一^1,2、谷本 陽佑³、尾崎 卓哉²、栗原 秀行³、星野 恭之³、遠藤 和彦^1,2、寒川 誠二^1,2 (1.産総研、2.東北大学、3.昭和電工)

キーワード：中性粒子ビームエッチング、ゲルマニウム、エッチングメカニズム