[19p-C204-1~17] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[19p-C204-8] C₂H_xF_y化合物の電子物性と解離(I)

〇林 俊雄¹、石川 健治¹、関根 誠¹、堀 勝¹ (1.名大プラズマナノ工学研)

キーワード：SiNx エッチング、水素化フロロエタン、計算化学

RIEによる窒化膜のエッチングにCH₂F₂が主に用いられている。しかし、CH_xF_yを生成する化合物は他にも多く存在する。ここでは、C₂H₅FおよびCH₃CHF₂について、計算化学を用いてその電子物性と解離について調べたので報告する。CH₂FCH₂FおよびCH3CHF₂については次の講演で報告する。