2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

[19p-C302-1~18] 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2018年3月19日(月) 13:45 〜 18:30 C302 (52-302)

牧山 剛三(富士通研)、加藤 正史(名工大)

15:30 〜 15:45

[19p-C302-8] GaN/InN超格子チャネルHEMTの電子輸送特性

〇(M1)星野 知輝1、森 伸也1 (1.阪大工)

キーワード:窒化ガリウム、高電子移動度トランジスタ、モンテカルロ

AlGaN/InGaN/GaN HEMTは,電子の有効質量が軽いことから,移動度の向上が期待される.しかし,InGaNは合金であり,合金散乱やランダム双極子散乱により,移動度が低下する可能性がある.本研究では,チャネル層のInGaN合金をGaN/InN超格子(SL)に置き換えたHEMTの電子移動度を,モンテカルロ法を用いて解析した.その結果,超格子チャネルHEMTでは,チャネル層における合金散乱およびランダム双極子散乱が無視でき,移動度が向上することがわかった.