2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[19p-F206-1~10] 6.2 カーボン系薄膜

2018年3月19日(月) 16:15 〜 19:00 F206 (61-206)

大越 康晴(電機大)、大花 継頼(産総研)

17:00 〜 17:15

[19p-F206-4] 簡易処理による低融点金属への高密着性DLCの作製

〇(B)中島 大地1、桒原 大樹2、安中 茂2、大越 康晴1、平栗 健二1 (1.東京電機大、2.仲代金属)

キーワード:ダイヤモンド状炭素膜

AlやCuのような低融点金属は、硬度や耐摩耗性などの表面特性に課題がある。この課題を解決するために表面処理技術として、DLCが注目されている。DLCは高硬度、耐摩耗性等の特性を有することから工業分野のコーティング材料として広く活用されている。しかし、低融点金属とDLCの密着性は低く、この改善は欠かせない。本研究では、電極の改良およびプラズマ処理により低融点金属に簡易的な表面処理を施し、DLCの密着性の改善を検討した。