2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[19p-P4-1~15] 6.2 カーボン系薄膜

2018年3月19日(月) 13:30 〜 15:30 P4 (ベルサール高田馬場)

13:30 〜 15:30

[19p-P4-8] フッ素含有DLC膜のX線照射と昇温による脱離過程の比較

神田 一浩1、福室 直樹2 (1.兵庫県立大高度研、2.兵庫県立大工)

キーワード:ダイヤモンドライクカーボン膜、軟X線、昇温脱離スペクトル

ダイヤモンドライクカーボン膜の軟X線照射による脱離過程を昇温脱離過程と比較して議論を行った。高水素化DLC膜では軟X線照射でも昇温においても水素分子の脱離が主である。一方、フッ素化DLC膜では軟X線照射ではフッ化炭素の脱離が主であるのに対し、昇温脱離ではフッ素・炭素が単独で脱離し、フッ化炭素はほとんど脱離せず、異なる脱離過程を経ることが明らかとなった。