The 65h JSAP Spring Meeting, 2018

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Poster presentation

6 Thin Films and Surfaces » 6.4 Thin films and New materials

[19p-P6-1~17] 6.4 Thin films and New materials

Mon. Mar 19, 2018 1:30 PM - 3:30 PM P6 (P)

1:30 PM - 3:30 PM

[19p-P6-14] Photoelectrochemical properties of SrNbO2N thin film with La-doped SrSnO3 buffer layer

Hisanori Mashiko1, Ryosuke Kikuchi1, Yasushi Kaneko1, Kazuhito Hato1 (1.Panasonic Corp.)

Keywords:Oxynitride, Photocatalyst

太陽光エネルギーによる水の全分解実現を目標に,可視光応答可能な光触媒の開発が盛んに行われている.我々は光触媒活性が報告されているSrNbO2Nに着目し,今回,SrNbO2N薄膜の高品質化による光触媒活性の向上を目的として,LaドープSrSnO3薄膜をバッファー層としたSrNbO2N薄膜を作製し,その光電気化学特性を評価したので報告する.