[20a-A204-1~10] 12.3 機能材料・萌芽的デバイス

△ [20a-A204-8] 新規塗布法による高品質硫化ビスマス薄膜の作製と光電気応答

〇(M2)西久保 綾佑¹、佐伯 昭紀^1,2 (1.阪大院工、2.JST-さきがけ)

キーワード：化合物半導体、光エレクトロニクス、ビスマス

時間分解マイクロ波伝導度法による高速スクリーニングから、Bi₂S₃が特に高い光過渡伝導度を示すことを見出した。我々はこのBi₂S₃の塗布による新規薄膜化法を開発し、膜品質・結晶化度の非常に高い薄膜の作成に成功した。得られた薄膜は既存手法によるBi₂S₃薄膜や、代表的な光電変換材料であるP3HT・有機無機ペロブスカイトを大きく上回る光伝導度と光応答性を示した。また、短距離から長距離に至るキャリア輸送過程について解明を行った。