2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.6 超高速・高強度レーザー

[20a-B301-1~11] 3.6 超高速・高強度レーザー

2018年3月20日(火) 09:00 〜 12:00 B301 (53-301)

谷 峻太郎(東大)

09:00 〜 09:15

[20a-B301-1] マルチプレートパルス圧縮によるサブ2サイクルCEP安定高強度中赤外パルス光発生

夏 沛宇1、Lu Faming1、石井 順久1、金井 輝人1、板谷 治郎1 (1.東大物性研)

キーワード:パルス圧縮、中赤外パルス、光パラメトリック増幅器

光パラメトリック増幅を用いて開発されたCEP安定マルチサイクル高強度中赤外パルス光源(3.5 μm, 120 μJ, 120 fs)の、固体プレートを複数用いた白色光発生による数サイクルへの高効率なパルス圧縮を行った。​厚み、媒質等の組み合わせを最適化した結果、2 mm及び1 mmのARコート付きSiと2 mmのYAGを用いることで、最短​21 fs(1.8サイクル)へのパルス圧縮に成功した。