[20a-B403-1~10] 7.5 イオンビーム一般

[20a-B403-4] アセチルアセトン雰囲気下GCIB照射による金属エッチング

〇豊田 紀章¹、岡本 暁¹ (1.兵庫県立大工)

キーワード：アセチルアセトン、GCIB、原子層エッチング

これまで、酢酸の表面吸着、残留ガス除去、吸着層へのGCIB照射を繰り返すことにより、GCIBを用いたハロゲンフリーALEが可能であることを示してきたが、今回反応性雰囲気ガスとして、金属錯体を形成しやすいアセチルアセトン[acetylacetone(acac), C₅H₈O₂]を用い、MRAM用各種金属に対するエッチング効果について調べるとともに、GCIB照射によるハロゲンフリーALEへの応用を検討した。