[20a-F214-1~9] 15.5 IV族結晶，IV-IV族混晶

△ [20a-F214-8] ナノビームX線回折法を用いた組成傾斜層を有する高Ge組成SiGe膜の結晶深さ方向格子面微細構造トモグラフィック解析

〇志田 和己¹、竹内 正太郎¹、藤平 哲也¹、今井 康彦²、木村 滋²、Andreas Schulze³、Matty Caymax³、酒井 朗¹ (1.阪大院基礎工、2.JASRI、3.imec)

キーワード：ナノビームX線回折法、高Ge組成SiGe、組成傾斜層