[20p-P4-1~40] 8 Plasma Electronics（Poster）

[20p-P4-9] Deposition of a-C:H films using H-assisted plasma CVD method together with tailored voltage waveforms

〇Kazunori Koga¹, Kenji Yamaki¹, Taojun Fang¹, Daisuke Yamashita¹, Hyunwoong Seo¹, Naho Itagaki¹, Masaharu Shiratani¹ (1.Kyushu Univ.)

Keywords:a-C:H, plasma CVD, photoresist

硬質a-C:Hを用いたフォトレジスト保護膜の実現のため、水素原子源付プラズマCVD法に任意電圧波形を併用した薄膜堆積結果について報告する。任意電圧波形を用いて膜へのイオンエネルギーが増加し、膜密度が増加した。この結果は任意電圧波形により膜質を制御出来る事を示唆している。