17:45 〜 18:00 △ [20p-B31-15] 紫外レーザー室温照射によるβ-Ga2O3(−201)薄膜合成と構造・特性制御 〇(M2)森田 公之1、松島 拓海1、土嶺 信男2、金子 智3,1、松田 晃史1、吉本 護1 (1.東工大物質理工、2.(株)豊島製作所、3.神奈川県産技総研)