Dooyong Lee

発表者・著者、共著者

2019年9月20日(金) 10:00 〜 11:45 E319 (E319)

一般セッション(口頭講演)
| 6 薄膜・表面
| 6.5 表面物理・真空

[20a-E319-1~7] 6.5 表面物理・真空

11:30 〜 11:45

▲ [20a-E319-7] In situ work function measurement in the transformation of MoS₂ to MoO₃ using ambient pressure X-ray photoelectron spectroscopy

〇(P)Dooyong Lee^1,4、Sehwan Song¹、Jiwoong Kim¹、Jouhahn Lee²、Wooseok Song³、Satoshi Kera⁴、Beomgyun Jeong²、Sungkyun Park¹ (1.Pusan National University、2.Korea Basic Science Institute、3.Korea Research Institute of Chemical Technology、4.Institute for Molecular Science)

2019年9月21日(土) 09:30 〜 11:30 PA2 (第一体育館)

一般セッション(ポスター講演)
| 6 薄膜・表面
| 6.3 酸化物エレクトロニクス

[21a-PA2-1~31] 6.3 酸化物エレクトロニクス

09:30 〜 11:30

▲ [21a-PA2-3] Film thickness variation mediated interfacial strain crossover in epitaxial VO₂ films

〇(P)Dooyong Lee^1,2、Sehwan Song¹、Jiwoong Kim¹、Sungkyun Park¹ (1.Pusan National University、2.Institute for Molecular Science)

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