青山航大

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発表者・著者、共著者

2019年9月20日(金) 13:45 〜 17:45 E303 (E303)

一般セッション(口頭講演)
| 13 半導体
| 13.2 探索的材料物性・基礎物性

[20p-E303-1~14] 13.2 探索的材料物性・基礎物性

14:15 〜 14:30

[20p-E303-3] 二元同時スパッタ法で作製したAeSi₂膜の作製

〇青山航大¹、清水荘雄¹、倉持豪人²、召田雅実²、秋池良²、井手啓介¹、片瀬貴義¹、神谷利夫¹、木村好里¹、舟窪浩¹ (1.東京工業大学、2.東ソー株式会社アドバンスマテリアル研究所)