16:00 〜 18:00 [19p-PB10-15] 化学溶液堆積法によるCu2SnS3薄膜の作製と評価 〇(B)菅井 一博1、友野 巧也1、田中 久仁彦2、森谷 克彦1 (1.鶴岡高専、2.長岡技大)