09:30 〜 11:30 [18a-PB3-38] 減圧化学気相法を用いたSi (111)基板上への六方晶窒化ホウ素薄膜成長 〇松下 一貴1、名嘉眞 朝泰1、渡邊 泰良1、小南 裕子1、原 和彦2,3 (1.静岡大総合研、2.静岡大創科院、3.静岡大電子研)