16:00 〜 18:00 [18p-PB5-32] 酸化物TFT向け低温SiN:F/SiO:F積層膜の固定電荷低減 〇酒井 敏彦1、安藤 瞭太1、瀬戸口 佳孝1、安東 靖典1、鮫島 俊之2 (1.日新電機(株)、2.農工大工)