一般セッション(口頭講演)
6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス
09:00 〜 09:15
〇土屋 敬志1、高栁 真1,2、井村 将隆1、小出 康夫1、樋口 透2、寺部 一弥1 (1.物材機構、2.東理大)
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09:15 〜 09:30
〇(D)並木 航1,2、土屋 敬志1、髙栁 真1,2、樋口 透2、寺部 一弥1 (1.物材機構、2.東理大)
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09:30 〜 09:45
〇菅 大介1、菅野 聡1、小杉 佳久1、小林 顕斗1、上林 奈央1、小金澤 智之2、島川 祐一1 (1.京大化研、2.JASRI/SPring-8)
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09:45 〜 10:00
ルパリ ラクシット1、〇服部 梓1、内藤 泰久2、島 久2、秋永 広幸2、田中 秀和2 (1.阪大産研、2.産総研)
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10:00 〜 10:15
〇下位 法弘1、田中 俊一郎1 (1.東北大)
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10:30 〜 10:45
〇近松 彰1、丸山 敬裕1、片山 司1、Yu Su2、辻本 吉廣2,3、山浦 一成2,3、北村 未歩4、堀場 弘司4、組頭 広志4,5、長谷川 哲也1 (1.東大院理、2.物材機構、3.北大院総合化学、4.KEK-PF、5.東北大多元研)
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10:45 〜 11:00
〇三浦 光平1、田中 淳平1、桐谷 乃輔1、吉村 武1、芦田 淳1、藤村 紀文1 (1.阪府大工)
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11:00 〜 11:15
〇根元 亮一1、阪永 裕士1、Yujun Zhang1、和達 大樹1、新船 幸二1、吉田 晴彦1、堀田 育志1 (1.兵庫県立大学)
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11:15 〜 11:30
〇阪永 裕士1、根元 亮一1、Yujun Zhang1、和達 大樹1、吉田 晴彦1、新船 幸二1、堀田 育志1 (1.兵県大工)
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