一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.2 材料・機器光学
09:00 〜 09:15
〇岡崎 豊1,2、中谷 真大1、Buffeteau Thierry2、Pouget Emilie2、蜂谷 寛1、佐川 尚1、小田 玲子2 (1.京大院エネ、2.ボルドー大CBMN)
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09:15 〜 09:30
〇片桐 直人1、佐藤 俊一1 (1.東北大多元研)
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09:30 〜 09:45
〇(M2)影山 明久1、富田 康生1、梅本 浩一2、劉 明2、Klepp Jürgen3、Pruner Chrinstian4、Fally Martin3 (1.電通大情工、2.ダイセル株、3.ウィーン大学、4.ザルツブルグ大学)
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09:45 〜 10:00
〇松本 浩輔1、臼井 鴻志1、赤松 範久1、宍戸 厚1 (1.東工大化生研)
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10:15 〜 10:30
〇久野 恭平1、杉山 翔平1、柳原 真樹1、堤 治1 (1.立命館大生命)
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10:30 〜 10:45
〇久野 恭平1、茂山 友樹1、堤 治1 (1.立命館大生命)
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10:45 〜 11:00
〇(M2)菅原 朋樹1、河村 希典1 (1.秋田大院理工)
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11:00 〜 11:15
〇中川 亮平1、河村 希典1 (1.秋田大院理工)
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