[20a-E307-1~6] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2019年9月20日(金) 10:00 〜 11:45 E307 (E307)

山本治朗(日立)、谷口淳(東理大)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

10:00 〜 10:15

[20a-E307-1] EUV化学増幅型レジストにおける感度向上へのメタル増感剤の役割

〇山本洋揮¹、Vesters Yannick^2,3、Jiang Jing²、de Simone Danilo²、Vandenberghe Geert²、古澤孝弘⁴ (1.量研高崎、2.IMEC、3.KU Leuven、4.阪大産研)

10:15 〜 10:30

〇(M2)河合俊平¹、岡本一将²、大沼正人¹、古澤孝弘² (1.北大院工、2.阪大産研)

10:30 〜 10:45

〇JAEYEON KIM¹、Ryo Toyama¹、Yutaka Majima¹ (1.Tokyo Institute of Technology)

11:00 〜 11:15

〇堀内敏行¹、井門芳恵¹、住本和弥¹、柳田明¹、小林宏史¹ (1.東京電機大工)

11:15 〜 11:30

〇川田博昭¹、清水進吾¹、安田雅昭¹、平井義彦¹ (1.大府大)

11:30 〜 11:45

〇(B)金子奈帆¹、大賀友瑛¹、大島淳史¹、金子智^2,1、松田晃史¹、吉本護¹ (1.東工大物質理工、2.神奈川県産技総研)