一般セッション(口頭講演)
6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス
2019年9月21日(土) 13:15 〜 16:00 N302 (N302)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:15 〜 13:30
〇(D)柵木 光1、Shivaji B. Sadale2、野田 啓1 (1.慶大理工、2.シバジ大学)
スケジュール
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13:30 〜 13:45
〇YinHsuan Chang1、Kai-Chi Hsiao1、Krisztian Kordas2、Ming-Chung Wu1 (1.Chang Gung Univ.、2.University of Oulu)
スケジュール
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13:45 〜 14:00
〇若杉 択人1、廣瀬 靖1、熊谷 啓2、前田 和彦2、長谷川 哲也1 (1.東大院理、2.東工大)
スケジュール
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14:00 〜 14:15
〇(M1)高柳 遼平1、市村 正也1、小林 悟史1 (1.名工大工)
スケジュール
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14:15 〜 14:30
〇(M1)冨田 悠月1、市村 正也1 (1.名工大工)
スケジュール
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14:45 〜 15:00
〇鶴岡 徹1、蘇 進1、辻田 卓司2、西谷 雄2、濱村 朋史2、稲富 友2、名倉 健祐2、寺部 一弥1 (1.物材機構、2.パナソニック(株))
スケジュール
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15:00 〜 15:15
〇(D)福井 慧賀1、飯村 壮史1、多田 朋史1、藤津 悟1、笹瀬 雅人1、玉造 博夢2、本田 孝志2、池田 一貴2、大友 季哉2、細野 秀雄1 (1.東工大、2.高エネ研)
スケジュール
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15:15 〜 15:30
〇(M1)今関 大輔1、Christopher van Gils3、西尾 和記1、清水 亮太1,2、一杉 太郎1 (1.東工大物質理工、2.JST さきがけ、3.University of Twente)
スケジュール
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15:30 〜 15:45
〇西尾 和記1、今関 大輔1、清水 亮太1,2、一杉 太郎1 (1.東工大物質理工、2.さきがけ)
スケジュール
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15:45 〜 16:00
〇山本 和生1 (1.JFCC)
スケジュール
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