一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.6 超高速・高強度レーザー [19a-E205-1~12] 3.6 超高速・高強度レーザー 2019年9月19日(木) 09:00 〜 12:15 E205 (E205) 小栗 克弥(NTT)
一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.6 超高速・高強度レーザー [19p-E205-1~19] 3.6 超高速・高強度レーザー 2019年9月19日(木) 13:45 〜 19:00 E205 (E205) 田邉 孝純(慶大)、渡邉 紳一(慶大)、久世 直也(徳島大)
一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.7 レーザープロセシング [18a-N304-1~8] 3.7 レーザープロセシング 2019年9月18日(水) 09:30 〜 11:45 N304 (N304) 中村 大輔(九大)、中嶋 隆(京大)
一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.7 レーザープロセシング [18p-N304-1~15] 3.7 レーザープロセシング 2019年9月18日(水) 13:15 〜 17:30 N304 (N304) 吉川 洋史(埼玉大)、小幡 孝太郎(理研)、安國 良平(奈良先端大)
一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.7 レーザープロセシング [19a-N304-1~10] 3.7 レーザープロセシング 2019年9月19日(木) 09:00 〜 11:45 N304 (N304) 石川 善恵(産総研)、欠端 雅之(産総研)
一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.7 レーザープロセシング [19p-E303-1~8] 3.7 レーザープロセシング 2019年9月19日(木) 15:45 〜 18:00 E303 (E303) 和田 裕之(東工大)、吉田 岳人(阿南高専)
一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.8 光計測技術・機器 [20a-E205-1~12] 3.8 光計測技術・機器 2019年9月20日(金) 09:00 〜 12:15 E205 (E205) 塩田 達俊(埼玉大)、染川 智弘(レーザー総研)
一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.8 光計測技術・機器 [20p-E205-1~12] 3.8 光計測技術・機器 2019年9月20日(金) 13:45 〜 17:00 E205 (E205) 西山 道子(創価大)、瀬戸 啓介(東理大)
一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.8 光計測技術・機器 [21a-E205-1~12] 3.8 光計測技術・機器 2019年9月21日(土) 09:00 〜 12:15 E205 (E205) 田辺 稔(産総研)、南川 丈夫(徳島大)
一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.9 テラヘルツ全般 [18p-E206-1~12] 3.9 テラヘルツ全般 2019年9月18日(水) 14:00 〜 17:30 E206 (E206) 諸橋 功(情通機構)、瀧田 佑馬(理研)