2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

[18a-B31-1~9] 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

2019年9月18日(水) 09:00 〜 11:30 B31 (B31)

矢口 裕之(埼玉大)、富永 依里子(広島大)

09:15 〜 09:30

[18a-B31-2] 第一原理計算によるGaPN混晶中の窒素-IV族ドーパント結合に関する検討

牧 唯人1、山根 啓輔1、若原 昭浩1 (1.豊橋技科大)

キーワード:III-V-N混晶、第一原理計算、ドーパント

GaP系III-V-N混晶におけるn型ドーパントは、Si,SeまたはTeが一般的である。いずれの元素でも生じるN組成増加に伴うキャリア濃度低下という問題に対し、我々はGaPN:GeやGaAsPN:Geの導電性制御を試み、新規n型ドーパントとしてのGeの有効性を実験的に確認した。本研究ではGaPN:Geを対象に、第一原理計算を用いた窒素-ドーパント結合に関する解析を行った。その結果、実験的事実と理論的解析の双方から、Geが有望なドーパントであることが確認できた。