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△ [18a-B31-2] 第一原理計算によるGaPN混晶中の窒素-IV族ドーパント結合に関する検討
キーワード:III-V-N混晶、第一原理計算、ドーパント
GaP系III-V-N混晶におけるn型ドーパントは、Si,SeまたはTeが一般的である。いずれの元素でも生じるN組成増加に伴うキャリア濃度低下という問題に対し、我々はGaPN:GeやGaAsPN:Geの導電性制御を試み、新規n型ドーパントとしてのGeの有効性を実験的に確認した。本研究ではGaPN:Geを対象に、第一原理計算を用いた窒素-ドーパント結合に関する解析を行った。その結果、実験的事実と理論的解析の双方から、Geが有望なドーパントであることが確認できた。