2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.2 材料・機器光学

[18a-E205-1~9] 3.2 材料・機器光学

2019年9月18日(水) 09:00 〜 11:30 E205 (E205)

三宮 俊(リコー)

10:30 〜 10:45

[18a-E205-6] 第一原理計算を用いたCs0.33WO3の劣化反応解析

吉尾 里司1、足立 健治1、久保 百司2 (1.住友金属鉱山、2.東北大金研)

キーワード:光学特性、第一原理分子動力学

セシウムがドープされたタングステンブロンズCsxWO3(CWO)のナノ微粒子は、可視透明性と近赤外吸収性を高レベルで両立した材料として、建築物や自動車の窓ガラスの近赤外線遮蔽材料などへの応用が進められている。一方、CWOの実用面においては、UV照射による着色(フォトクロミズム)や、高温、高湿下での近赤外吸収性能の劣化(脱色現象)が報告されており、応用を広げる上での障害となっている。CWOの環境劣化を抑制し、光学特性を安定化することは学術的にも工業的にも非常に重要な課題である。
しかしながら、CWOの劣化挙動についてはまだ十分に理解がなされていない。そこで、第一原理分子動力学計算により高温高湿下での劣化反応機構の解明を試みたので報告する。