2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション

[18a-E303-1~12] 13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション

2019年9月18日(水) 09:00 〜 12:15 E303 (E303)

嵯峨 幸一郎(ソニー)、蓮沼 隆(筑波大)

10:00 〜 10:15

[18a-E303-5] バイオテンプレート極限加工により作製した配置制御Siナノピラー構造による表面撥水性の制御

竹内 聡1、大堀 大介1、石田 昌久2、田中 麻美2、曽田 匡洋2、寒川 誠二1,3 (1.東北大流体研、2.長瀬産業、3.東北大AIMR)

キーワード:撥水性、Siナノピラー構造、中性粒子ビーム

固体表面における撥水性の研究は様々な分野において注目を集めている。我々は独自の技術であるバイオテンプレート極限加工技術と中性粒子ビーム加工技術を用いて高均一・高密度・低欠陥の10nmサイズのSiナノピラー構造を作製し撥水性の実現に必要な表面に微細構造を作製した。本研究では配置制御されたSiナノピラー構造の間隔を25~60 nmと変化させ、間隔の変化によって生じる表面の撥水性の変化について検討した。