2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[18a-E311-1~9] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2019年9月18日(水) 09:00 〜 11:30 E311 (E311)

村岡 祐治(岡山大)

09:30 〜 09:45

[18a-E311-3] 酸化鉄エピタキシャル薄膜の低温合成と構造・価数制御

菅 大介1、菅野 聡1、小杉 佳久1、小林 顕斗1、上林 奈央1、小金澤 智之2、島川 祐一1 (1.京大化研、2.JASRI/SPring-8)

キーワード:鉄酸化物、ミストCVD、低温薄膜成長