The 80th JSAP Autumn Meeting 2019

Presentation information

Oral presentation

6 Thin Films and Surfaces » 6.3 Oxide electronics

[18a-E311-1~9] 6.3 Oxide electronics

Wed. Sep 18, 2019 9:00 AM - 11:30 AM E311 (E311)

Yuji Muraoka(Okayama Univ.)

11:00 AM - 11:15 AM

[18a-E311-8] Temperature dependence of electrical characteristics of (La1-xSrx)VO3/p-Si(100) junctions

Ryoichi Nemoto1, Hiroshi Sakanaga1, Yujun Zhang1, Hiroki Wadati1, Koji Arafune1, Haruhiko Yoshida1, Yasushi Hotta1 (1.Univ. of Hyogo)

Keywords:transition metal oxide, strong correlation, silicon

次世代の電子デバイス開発において、遷移金属酸化物の電子物性とシリコンエレクトロニクスを融合させることの重要性が益々大きくなっている。しかし、遷移金属酸化物の電子物性をシリコンデバイスに直接組み込んだ研究の報告は依然として少ない。我々はMott 絶縁体である(La1-xSrx)VO3(LSVO)とシリコンの直接接合構造を作製し、遷移金属酸化物とシリコンの機能融合を目指した研究を行ってきた。今回は、LSVO/p-Si(100)接合の電気特性の温度依存性を調査した。