2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[18a-F211-1~8] 8.3 プラズマナノテクノロジー

2019年9月18日(水) 09:45 〜 12:00 F211 (レクチャーホール)

竹田 圭吾(名城大)、鎌瀧 晋礼(九大)

11:00 〜 11:15

[18a-F211-5] 大気圧プラズマジェットを用いたラジカル支援ミストCVDによる酸化亜鉛薄膜合成

可児 旭1、竹田 圭吾1、平松 美根男1 (1.名城大理工)

キーワード:酸化亜鉛、大気圧プラズマジェット、ミスト化学気相堆積法

本研究では、ミスト化学気相堆積法の成膜反応場に大気圧プラズマジェットによって生成されるラジカルを供給することで成膜温度の低減に加え、合成される薄膜の高品質化に繋がるのではないかと期待した。今回、大気圧プラズマジェット(APPJ)を用いた酸素ラジカル供給により膜に与える影響を検討した。