2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

8 プラズマエレクトロニクス » 8.3 プラズマナノテクノロジー

[18a-F211-1~8] 8.3 プラズマナノテクノロジー

2019年9月18日(水) 09:45 〜 12:00 F211 (レクチャーホール)

竹田 圭吾(名城大)、鎌瀧 晋礼(九大)

11:45 〜 12:00

[18a-F211-8] CCP-CVD/スパッタ複合プロセスによる金属ドープSiO:CH膜の作製

〇(B)相原 康二2、菅野 匡宏1、矢崎 衛1、井上 泰志1,2、高井 治3 (1.千葉工大院工、2.千葉工大工、3.関東学院大・表面研)

キーワード:CCP-CVD、マグネトロンスパッタリング、SiO:CH膜