[18a-N304-1~8] 3.7 Laser processing

[18a-N304-5] Spatiotemporal dynamics in femtosecond ablation process on semiconductor

〇Shuntaro Tani¹, Yohei Kobayashi¹ (1.ISSP, Univ. Tokyo)

Keywords:femtosecond laser ablation

フェムト秒レーザーアブレーション過程を明らかにするため半導体の超高密度励起状態の時空間発展の測定を行なった。超高密度励起下の半導体の時空間ダイナミクスを探るべく、ダブルポンプ-３次元プローブシステムを構築し、1つ目のポンプパルスにより誘起された状態により変調される2つ目のパルスによるアブレーション結果をナノメートル精度で測定した結果のエネルギー緩和過程についての議論を行う。