[18a-PA6-1~12] 8.1 Plasma production and diagnostics

[18a-PA6-2] Verification of AlN⁺ production by a plasma sputter type ion source

〇Takeshi Sakamoto¹, Kasuya Toshiro¹, Wada Motoi¹ (1.Doshisha Univ.)

Keywords:Aluminum nitride

マグネトロンスパッタ型Al ターゲット表面にN₂ 放電により形成されたAlN 層をスパッタすることで，AlN⁺ ビームを引き出す．これまでは質量数の大きいAr を用いて放電を形成してきたが，ビームを計測する際に質量スペクトル上での分離が明確でない場合もあった．これはAlN⁺ の質量数が41でありAr⁺ の質量数が40と隣接していることが原因である．そのため，質量数20 であるNeでの放電を行うことによりAlN ⁺ 電流量を調査した．